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簡要描述：該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)（PECVD），連續(xù)可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下實現(xiàn)工藝，PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光相對均勻等效，很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-35°之間，所有物料經(jīng)過的管道都選用非金屬材質，
產(chǎn)品型號：BTF-1200C-RP-PECVD廠商性質：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-09-04訪 問 量：1696產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
| 品牌 | 貝意克 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
技術參數(shù)
加熱系統(tǒng)Heating system | |
功率 | 4KW |
電壓 | AC220V 50/60Hz |
zui高溫度 | 1200°C |
使用溫度 | 1100°C |
加熱長度 | 200mm+200mm |
恒溫長度 | 250mm |
| 模糊PID控制和自整定調節(jié) 智能化30段可編程控制 超溫和斷偶報警功能 操作界面為10 "液晶觸摸屏控制 |
控溫精度 | +/- 1℃ |
爐管尺寸 | Size：Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm 尺寸：Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm Furnace tube rotation rate：0~60r/min 爐管轉速：0~60r/min |
Furnace body inclination angle | 0~35°（adjustable） |
Plasma系統(tǒng) | |
本系統(tǒng)借助于輝光放電產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中，電子密度高，通過反應氣態(tài)放電，有效利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式。 | T |
進料系統(tǒng) | |
送料系統(tǒng)速度連續(xù)可調，停止送料且爐體傾斜zui大時，物料不會從送料系統(tǒng)外漏，送料系統(tǒng)方便拆卸，拆卸后可手動加料，設備可正常運行。 | T |
出料系統(tǒng) | |
出料系統(tǒng)在爐體傾斜出料時可自動出料。） | |
氣體控制系統(tǒng) | |
該控氣系統(tǒng)是可以控制兩種氣體按照不同流量進行混合配比的，也可以獨立控制，質量流量計安裝于密封的可移動的機柜內，由超潔雙拋不銹鋼管與精密雙卡套接頭連接組成。 | |
低真空系統(tǒng) | |
該系統(tǒng)配備真空機械泵，可以抽真空，可以讓設備在真空環(huán)境下進行反應。 | |
氣料分離系統(tǒng) | |
該系統(tǒng)可以讓設備在充氣體保護或者抽真空時，實現(xiàn)氣體與物料的分離。 | |
過濾系統(tǒng) | |
該系統(tǒng)可防止物料進入真空泵，保證真空泵的正常運行。 | |
爐管轉動系統(tǒng) | |
爐管轉動系統(tǒng)可以讓爐管360°勻速轉動，轉速在0-60r/min連續(xù)可調，且能在60r/min轉速下長時間運行。 | |
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